Filmetrics® R54-200 和 Filmetrics R54-300 薄膜电阻测绘系统
产品描述
Filmetrics® R54-Series 系统在保留 R50 测量功能的基础上，增加全遮光外壳和升级性能。配备自动 X-Y-θ 载物台，可完整装载 200 毫米或 300 毫米晶圆，对半导体和化合物半导体晶圆进行测绘。
产品功能
- 提供四点探头（4PP）或非接触式涡流（EC）配置
- 高精度装载台，可容纳直径高达 300 毫米的圆形样品
- 封闭式系统，可测量光敏或对环境敏感的样品
- 支持的样品高度可达 15 毫米
- 4PP 可测量导电和半导体薄膜电阻，涵盖十个数量级的薄膜电阻测量范围
- 兼容 KLA 的所有薄膜电阻探针
- 业内小的涡流探测尺寸
- 适配200毫米圆形载台，可选配210毫米方形载物台
- 可选配基于NIST可追溯的电阻标样
- 用户可指定使用矩形、线性、极坐标和自定义采样图案对样品进行测绘
- 易于使用的软件界面
- 提供 SECS/GEM 接口
应用
- 金属薄膜和背面方块电阻均匀性
- 离子注入工艺优化
- 基板电阻率
- 薄膜方块电阻
- 薄膜厚度或电阻率
- 薄膜电导率
- 块体电导率
- 数据采集和可视化
行业
- 汽车
- 太阳能
- LED
- 半导体晶圆基板
- 玻璃基板
- 电路板和 PCB 图案化功能
- 平板显示器层和图案化功能
- VR 显示器
- 金属箔
- 导电橡胶和弹性体
- 学术研究
主要应用举例
金属薄膜的均匀度
金属薄膜电阻均匀度对于确保设备性能至关重要，大多数金属薄膜都可以使用 4PP（四点探针）和 EC（涡流探针）进行测量。 EC 适合测量较厚的高导电金属薄膜，4PP 则适合测量较薄的金属薄膜（> 10Ω/sq），但两种测试方法的结果具有高度相关性，两者都能得出准确的测量结果。
Filmetrics R54 电阻率映射图着重显示薄膜均匀度、沉积质量和其他工艺差异。 左侧示例是 TiWN 沉积层的映射图，显示了批次式反应器特有的“指纹”。
离子注入工艺优化
4PP 探针是测量离子注入工艺的标准技术。 Filmetrics R54 软件包括 I-V 曲线绘图和电流坡道扫描，可用于优化测量期间使用的电流或识别植入层与支持硅基板之间的电流泄漏。 借助热退火后的离子注入等高线图和直径扫描，即可识别灯泡故障、晶圆/承载台接触不良或注入剂量不均而导致的热点和冷点生成。
在左侧示例中，通过改善背面热接触，工艺得以优化。 对晶圆完整直径电阻的精准测量，为优化反应器的加热曲线及降低非均匀性提供了必要信息。
薄膜厚度/电阻率/方块电阻
测量得出的晶圆数据可以映射为方块电阻、薄膜厚度或电阻率。 只需输入材料的电阻率值（或与电阻率值相关的函数），即可计算和显示厚度；而若输入厚度值，则可以计算出电阻率。
数据采集和可视化
RsMapper 是 R54 的用户界面，直观易用。它将数据采集和分析功能整合到一个平台中，可直接在工具上操作，或进行离线分析。 使用各种坐标布局轻松设定数据采集测量点。
RsMapper 平台能以 2D 或 3D 形式呈现测量结果，实现关键薄膜均匀度数据的可视化，例如左侧显示的离子束扫描问题。 软件可在不同测量参数映射图和可旋转三维剖面图之间轻松切换，让用户能自定义工艺参数视图。SECS/GEM：基本接口可用于远程桌面操作。
CondWafer-4PP
四点探针校准晶圆套装。 陶瓷探针校准基板，4 英寸方形。
适用于 Filmetrics R50 / R54 四点探针系统。
4PP-TypeA
4PP-TypeA 4PP 探头，间距 1 毫米，尖端半径 40 微米，负载100克。 适用于金属测量。
4PP-TypeB
4PP-TypeB 4PP 探头，间距 1 毫米，尖端半径 100 微米，负载100克。 适用于一般用途的离子注入测量。
4PP-TypeC
4PP 探头，间距 1 毫米，尖端半径 200 微米，负载100克。 适用于注入/高阻抗表面测量。
4PP-TypeD
4PP 探头，间距 1 毫米，尖端半径 500 微米，负载100克。 适用于复杂注入/高阻抗表面测量。
4PP-TypeE
4PP 探头，间距 1.6 毫米，尖端半径 40 微米，负载200克。 适用于基板/块体材料测量。
4PP-TypeF
4PP 探头，间距 0.625 毫米，尖端半径 40 微米，负载100克。适用于金属测量。
4PP-TypeG
4PP 探头，间距 0.6 毫米，尖端半径 100 微米，负载100克。 适用于一般用途的离子注入测量。
4PP-TypeH
4PP 探头，间距 0.6 毫米，尖端半径 200 微米，负载100克。 适用于注入/高阻抗表面测量。
4PP-TypeI
4PP 探头，间距 0.6 毫米，尖端半径 500 微米，负载100克。 适用于复杂注入/高阻抗表面测量。
EC-ProbeA
涡流探头。 直径 1.5 毫米，10 兆赫，电阻率<1Ohm/sq。
EC-ProbB
涡流探头。 直径 1.5 毫米，5 兆赫，电阻率 <50Ohm/sq。
EC-ProbD
涡流探头。直径 4 毫米，10 兆赫，电阻率 <500Ohm/sq。
