Filmetrics® F54 薄膜厚度测量测绘仪

Filmetrics F54 集成了 F40 的微小光斑与內建摄影机，再结合 R-Theta 载物台与高级光谱反射系统，可自动测绘直径长达 450 毫米的样品。

产品描述

使用 F54 高级光谱反射系统，便捷轻松地测绘直径长达 450 毫米的样品的薄膜厚度。电动 R-Theta 载物台可自动移动至指定的测量点，厚度测量速率可达每秒 2 个测量点。此高级光谱反射工具拥有自动对焦和微光斑尺寸这两项标配功能。

将 F54 连接笔记本电脑仅需几分钟，厚度测量速率可达每秒 2 个测量点。该系统内置数十种预设的极坐标、矩形或线性测绘模式，还支持用户自定义测绘模式，测量点数量不受限制。

产品功能

微光斑尺寸
内置集成式摄像头
自动对焦（电动 Z 载物台）
每款系统均配备直观的分析软件
训练有素的应用工程师，通过电话、电子邮件和在线工具，提供高效的技术支持
系统套件包含集成式光谱仪/光源模块、显微镜适配器、反射率标准片、厚度标准片等！

应用

自动测绘大多数光滑非金属薄膜的厚度，包括：

SiO₂（二氧化硅）
光刻胶
SiN_x（氮化硅）
聚合物层
DLC（类金刚石碳）
聚酰亚胺
多晶硅
非晶硅

行业

半导体制造

光刻胶、氧化物/氮化物/SOI（绝缘体覆硅）、晶圆背面研磨

液晶显示器

液晶间隙、聚酰亚胺、ITO（氧化铟锡）和其他 TCO（透明导电氧化物）

光学涂层

硬质涂层厚度、增透膜层、滤光片

MEMS（微机电系统）

光刻胶
硅膜
AlN（氮化铝）/ZnO（氧化锌）薄膜滤光片

为测量项目选择合适的 Filmetrics F54 配置。

不同 F54 仪器的主要区别在于测量厚度范围，而厚度测量范围又取决于仪器的波长范围。测量较薄的薄膜，需要用到较短的波长（F54-UV）；而测量较粗糙、较厚和透光性更差的薄膜，则需要较长的波长。

行业应用举例

半导体：非晶硅（a-Si）和多晶硅厚度测量

使用 Filmetrics F54 测量非晶硅和多晶硅的光学常数（n 和 k）。该工具涵盖成熟的测量程序，可同时测量和呈现基板厚度、硅层厚度以及层间二氧化硅（SiO₂）厚度。轻点一下，即可完成。

半导体：介电质性能测量

在电子行业，介电薄膜的测量准确性极其重要。以下是 Filmetrics 测量系统应用最广泛的介电质测量项目：

二氧化硅厚度：Filmetrics 系统可测量 SiO₂ 薄膜的厚度，测量厚度范围为 3 纳米到 1 毫米。

氮化硅（Si₃N₄）的折射率：通过测量氮化硅的折射率以及膜层厚度，可在几秒内全面地表征氮化硅薄膜的性质。联系我们的薄膜专家，共同探讨您的介电质应用或获取免费试用服务。

显示器：ITO 薄膜厚度

使用精准折射率测量技术，测量氧化铟锡（ITO）和其他透明导电氧化膜（TCO）的厚度。 Filmetrics 工具可以测量液晶层（聚酰亚胺、硬质涂层、液晶和 OLED 层），包括发光层、注入层、缓冲层和封装层。

生物医学涂层厚度测量

单击一下即可测量生物医学领域的涂层厚度，如导管和血管成形术球囊、支架、导丝、针头和其他植入物的涂层厚度。医疗器械使用专门的涂层来保护设备免受腐蚀，而其他一些涂层则可预防组织创伤、感染甚至是排斥反应等并发症。另一种常见应用是测量药物输送设备涂层的厚度。我们的 Filmetrics 工具能快速、可靠地测量厚度，且不会造成破坏，无需对样品进行预处理。

显示器：OLED 测量

有机发光二极管（OLED）应用于多种显示设备，如手机和电视。 OLED显示屏由多种膜层材料组合而成，精准量测它们的厚度信息对表征OLED来说至关重要，对于OLED膜层材料的厚度测量需要用到非接触式测量系统。我们的 F54-UV 薄膜厚度测量仪器经济实惠、效果可靠，采用非侵入式的测量方法，适用于简单原型设备和全像素化显示屏的测量。我们的 OLED 测量仪器采用光谱技术，因此还可以检测大气敏感材料中潜在的化学变化。我们还提供 OLED 薄膜样品免费厚度测量体验。

半导体：光刻胶厚度测量

借助 F54 单点桌上型测绘工具，测量单层、多层，甚至是自支撑光刻胶薄膜的光刻胶厚度和蚀刻速率。所有 Filmetrics 模型均可实现精准光谱反射率建模，以测量光阻厚度（和光阻率）。独特的专利算法让强大的“一键式”分析变为可能，通常可在一秒内输出结果。 Filmetrics 产品线最热门的应用包括测量 SU-8、Dow BCB 和其他超厚光刻胶的厚度。